設備參數 | |
腔體 | 方形:450*450*(400-800),前開門,后側移門(接手套箱),材質:SUS304 |
真空系統 | 分子泵(Pfeiffer700L/S)+機械泵(10L/S),配旁抽閥. 極限真空可到2.0*10-5Pa.或其它客戶要求泵組 全量程真空計顯示范圍(1.0*10E5Pa-1.0*10E-5Pa), 插板閥:HVA 6英寸/ HVA4英寸 |
機架 | 60進口鋁型材組裝,輕便,美觀 |
基片盤 | 伺服電機控制,可在0-50轉/分勻速轉動,可任意角度定位. 可裝1-4塊32*32基片 配四塊掩膜板(掩膜圖形0-12個), |
擋板 | 基片擋板為氣缸+磁流體驅動,傳動穩定,密封可靠 |
蒸發源 | 蒸發源2-16組: 在腔體底部呈發散形分布,相互間擋板隔開,避免交叉污染 |
電源 | 進口TDK-Lambda系列電源.電流加熱模式, 精度0.1A： 數量:客戶要求 功率:600W, 1500W, 3000W |
軟件控制 | PLC+PC機 真空系統:可在軟件界面自動,手動控制， 蒸鍍過程的各個操作環節，掩膜板更換，樣品架旋轉及定位,電源功率調節等均可在軟件界面進行設定,實現軟件控制， 供電：380 VAC，50Hz電源輸入。 |
膜厚儀 | 腔體內可裝1到多個晶振探頭，靠近樣品架中央有一個中心探頭。膜厚顯示精度0.01 A/S。 顯示集成在電腦控制系統內，性能相當于或優于采用國際知名品牌SQM-242 PCI卡. 顯示采用膜厚顯示儀或集成在PC機內的顯示卡。 |
手套箱 | 可選配，手套箱含水氧探頭、氣體循環和再生系統。水氧含量控制在小于1 ppm。 配有EDWARDS旋片式真空泵或其它泵組 手套箱尺寸：2400×750×900mm（長×寬×高）(可定制) |
